特許

J-GLOBAL ID：200903079869856739

レーザ描画装置

発明者： 大江 祐司
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-052426
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232362
出願日： 1997年02月20日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】 被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて描画パターンを記録するレーザ描画装置であって、描画パターンの全体が少なくとも2つのバンドに基づく部分描画パターンをつなぎ合わせて得られるレーザ描画装置において、互いに隣接する双方のバンドに跨がって描画パターンが記録される際にその描画パターンがバンドのつなぎ目でその連続性あるいは一体性を損なうことなく得られるようにする。【解決手段】 部分描画パターン間にそのつなぎ合わせ境界を含む所定幅のつなぎ領域を設定し、このつなぎ領域でのラスタデータに基づく描画記録が2回繰り返され、第1回目の記録時、ラスタデータをマスクデータでマスク処理し、第2回目の記録時、反転マスクデータでマスク処理を行う。

請求項（抜粋）：

被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて所望の描画パターンを該被描画体に記録するレーザ描画装置であって、前記描画パターンの全体が少なくとも2つのバンドに基づく部分描画パターンをつなぎ合わせて得られるように構成されたレーザ描画装置において、前記部分描画パターン間にそのつなぎ合わせ境界を含む所定幅のつなぎ領域が設定され、このつなぎ領域でのラスタデータに基づく記録が2回繰り返され、第1回目の記録時、そのラスタデータが所定のマスクデータでマスク処理され、第2回目の記録時、そのラスタデータが前記マスクデータの反転マスクデータでマスク処理されることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  G03F 7/20 505 ,  H04N 1/19

FI (3件)：

G02B 26/10 Z ,  G03F 7/20 505 ,  H04N 1/04 103 A