特許

J-GLOBAL ID：200903079888331140

エバネッセント光露光用マスク、その製造方法及びエバネッセント光露光装置

発明者： 池田 勉 ,  黒田 亮
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-019450
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218901
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 被露光物の微細加工を可能とするエバネッセント光露光用マスク、その製造方法及びエバネッセント光露光装置を提供する。【解決手段】 マスク母材201の表面に金属層203を形成し、その後、走査型プローブ顕微鏡220により金属層203表面に対して微小開口204を形成する。これにより微小開口204が金属層203の表面より、凸状に隆起したエバネッセント光露光用マスクが得られる。

請求項（抜粋）：

光を透過する基板と、前記基板の表面に形成され、露光パターンに則した光透過部が設けられた金属層とを有するエバネッセント光露光用マスクにおいて、前記光透過部は前記金属層の表面より隆起した形状であることを特徴とするエバネッセント光露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 509