特許

J-GLOBAL ID：200903079892155578

不均質触媒反応を行う装置および触媒を生成する方法

発明者： シュスラー,マーチン ,  シュテファノヴスキー,トーマス ,  ツーア メゲーデ,デートレフ
出願人/特許権者： イクスツェルシス ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 田中 清 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-514728
公開番号（公開出願番号）：特表2001-518390
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】例えば炭化水素またはアルコール、特にメタノールによる水素の生成のような、炭化水素および水を含む反応混合物が触媒上に供給される不均質触媒反応を行うために、少なくとも1種の触媒粉末を、成型体を形成する高度に圧縮された層に圧縮することにより、触媒を生成することを提案するものであり、この触媒層を通して圧力降下を伴って反応混合物を加圧することを可能とするものである。

請求項（抜粋）：

適当な反応混合物が触媒上に供給される不均質触媒反応を行う装置であって、触媒が、触媒材料の圧縮によって形成された少なくとも1つの薄い大面積の層(10、10’、21)であり、前記層を通して圧力降下(Δp)を伴って反応混合物を加圧し得ることを特徴とする装置。

IPC (5件)：

B01J 23/72 ,  B01J 15/00 ,  B01J 19/24 ,  B01J 23/89 ,  C01B 3/32

FI (5件)：

B01J 23/72 M ,  B01J 15/00 ,  B01J 19/24 A ,  B01J 23/89 M ,  C01B 3/32 A