特許

J-GLOBAL ID：200903079908763190

フッ素系樹脂の表面改質方法及びその装置

発明者： 佐藤 満
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中村 智廣 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-352221
公開番号（公開出願番号）：特開2001-151914
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【解決課題】 低濃度で安全なアミン系溶剤を含む溶液を紫外線吸収体として用い、被加工物に対して均一でかつ効率的な表面改質加工を行なうことが可能なフッ素系樹脂の表面改質方法及びその装置を提供することを課題とする。【解決手段】 フッ素を末端基に含むフッ素系樹脂の表面を改質するフッ素系樹脂の表面改質方法において、前記フッ素系樹脂の表面にアミン系溶剤を含む溶液が存在する状態で、当該フッ素系樹脂の表面に紫外レーザ光を照射するように構成して課題を解決した。

請求項（抜粋）：

フッ素を末端基に含むフッ素系樹脂の表面を改質するフッ素系樹脂の表面改質方法において、前記フッ素系樹脂の表面にアミン系溶剤を含む溶液が存在する状態で、当該フッ素系樹脂の表面に紫外レーザ光を照射することを特徴とするフッ素系樹脂の表面改質方法。

IPC (8件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 CEW ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/02 ,  C08J 7/12 CEW ,  G03G 15/20 103 ,  C08L 27:12

FI (8件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 CEW ,  B05D 3/06 102 Z ,  B05D 3/10 H ,  B05D 7/02 ,  C08J 7/12 CEW Z ,  G03G 15/20 103 ,  C08L 27:12

Fターム (19件)：

2H033AA31 ,  2H033BB05 ,  2H033BB14 ,  2H033BB31 ,  4D075BB46Y ,  4D075BB48Y ,  4D075DB39 ,  4D075EA06 ,  4D075EC30 ,  4F073AA01 ,  4F073BA15 ,  4F073BA16 ,  4F073CA46 ,  4F073CA53 ,  4F073DA11 ,  4F073EA03 ,  4F073EA24 ,  4F073EA62 ,  4F073HA15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 脂肪族アミンとの光照射によるフッ素系高分子の表面改質方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-063124   出願人：日本原子力研究所
• フッ素樹脂成形体表面の改質法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-246038   出願人：倉敷紡績株式会社, 日本原子力研究所, 財団法人放射線照射振興協会
• フツ素樹脂-シリコーンゴム積層体およびその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-276882   出願人：日東電工株式会社