特許

J-GLOBAL ID：200903079910907981

プラズマ発生方法およびプラズマ発生装置

発明者： 水井 順一 ,  阿部 隆夫 ,  佐竹 宏次 ,  池田 哲哉
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-233274
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068097
出願日： 1998年08月19日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ発生方法およびプラズマ発生装置において、プロセス速度が速く、基板等処理材料の位置で高いプラズマ密度を効率的に発生させること。【解決手段】 発生させた磁場の磁力線8に沿って伝播する電磁波を高周波アンテナ3で励起し、前記電磁波で少なくとも水素化合物ガス、水素希釈ガス、水素ガス、ヘリウム化合物ガス、ヘリウム希釈ガスまたはヘリウムガスのいずれか一つを放電してプラズマを発生させる方法であって、前記磁力線が発散状態となる非一様磁場空間中に前記高周波アンテナを配置してプラズマを発生させる。

請求項（抜粋）：

発生させた磁場の磁力線に沿って伝播する電磁波を高周波アンテナで励起し、前記電磁波で少なくとも水素化合物ガス、水素希釈ガス、水素ガス、ヘリウム化合物ガス、ヘリウム希釈ガスまたはヘリウムガスのいずれか一つを放電してプラズマを発生させる方法であって、前記磁力線が発散状態となる非一様磁場空間中に前記高周波アンテナを配置してプラズマを発生させることを特徴とするプラズマ発生方法。