特許

J-GLOBAL ID：200903079939242075

気相グラフト反応法

発明者： 大豊 武彦 ,  三浦 司和
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 猛 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-349757
公開番号（公開出願番号）：特開平5-156057
出願日： 1991年12月10日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：

【要約】【目的】 イオン交換基、親水性基などの官能基を多孔性膜の細孔内表面に均一に導入する方法に関する。【構成】 高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、高分子化合物に電離性放射線を照射してラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、不活性ガスをキャリアガスとして使用し、電離性放射線の線量に傾斜をつける。【効果】 特定の気相法の放射線グラフト重合法により、膜内部に微視的、巨視的に官能基の分布にむらがない、理想的な機能性多孔膜が得られる。この膜は、は、親水性多孔膜、イオン吸着膜、キレート膜、アフィニティ膜に応用が可能である。

請求項（抜粋）：

高分子化合物の表面に放射線グラフト重合する方法において、高分子化合物に電離性放射線を照射してラジカルを生成させ、モノマーを気相グラフト反応する時に、不活性ガスをキャリアガスとして使用し、電離性放射線の線量に傾斜をつけることを特徴とする、気相グラフト反応方法。

IPC (5件)：

C08J 7/18 ,  C08F 2/34 MCF ,  C08F 2/34 MCT ,  C08F 2/46 MDT ,  C08F291/00 MPZ