特許

J-GLOBAL ID：200903079941257136

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078973
公開番号（公開出願番号）：特開平9-267079
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 同一の処理槽内で異なる種類の処理液を基板に同時に供給することができるようにする。【解決手段】 第1水洗槽31内に敷設される搬送方向に対して直交した面内で水平方向に対して傾斜した搬送ローラ5で搬送されつつある基板Bの主面の搬送方向に対する上位側端縁の上手側および下手側のそれぞれに向けて基板Bの搬送方向に沿うように上記第1洗浄水L1および第2洗浄水L2を吐出する上手側処理液供給手段6aおよび下手側処理液供給手段6bと、上手側処理液供給手段6aと下手側処理液供給手段6bとの間に基板Bの主面を横断するように配設された中央部仕切りローラ7aと、この中央部仕切りローラ7aを境にして基板B搬送路の下部で上記第1水洗槽31を二分する仕切壁33とが備えられている。

請求項（抜粋）：

処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した仕切りローラとを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

B08B 3/02 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

B08B 3/02 C ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭58-139705
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-139705
  
• 特開昭58-139705