特許

J-GLOBAL ID：200903079945684730

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 清瀬 浩巳
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-368251
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170804
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 基板処理装置の周囲装置の外壁面を洗浄することで、基板の均一な処理を施すことができる。【解決手段】基板処理装置はスピンチャック1に基板Wを保持した状態で、電動モーター6により基板Wを回転させる。洗浄処理過程は基板Wの上下面に、純水供給源10より純水が供給される。所定時間が経過すると昇降機構40により周囲案内部材30が下降され、第二高さ位置(LW)に位置される。基板Wの周縁からは純水が流出して、周囲案内部材30の上面32aに降り注ぐ。この純水は上面32aと円筒面32bに沿って周囲案内部材30の外壁面の汚れを洗浄し、第2の排液槽24bに回収される。

請求項（抜粋）：

基板に洗浄液を供給して洗浄液による基板処理を行う基板処理装置であって、基板を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄液供給手段から供給された洗浄液を回収する回収路と、前記保持手段に保持された基板の周囲を取り囲むように配設され、基板から飛散される洗浄液を前記保持手段に保持された基板の側方で受け止めて前記回収路に導く周囲案内部材と、前記周囲案内部材に対して基板周縁が、上方に位置するか、または下方に位置するように、前記保持手段と前記周囲案内部材とを相対的に昇降させる昇降手段と、前記昇降手段を制御して、基板周縁が前記周囲案内部材より上方の位置に上昇させ、前記洗浄液供給手段より洗浄液を基板上に供給し、基板の周縁から流出した洗浄液で周囲案内部材の外壁面を洗浄する制御手段と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 R

Fターム (14件)：

5F043BB27 ,  5F043EE07 ,  5F043EE09 ,  5F046JA02 ,  5F046JA05 ,  5F046JA06 ,  5F046JA07 ,  5F046JA09 ,  5F046JA10 ,  5F046JA15 ,  5F046LA02 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05 ,  5F046LA06