特許
J-GLOBAL ID：200903079952091027
イオン交換膜の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085341
公開番号（公開出願番号）：特開平6-271687
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】耐熱性、耐薬品性が十分にあるイオン交換膜を欠陥なく製造する方法を提供する。【構成】基材に重合性モノマーを含浸担持し、該重合性モノマーを前段で電離性放射線の照射により一部反応させ、後段で重合開始剤の存在下加熱により残部を重合させ、必要に応じてイオン交換基を導入するイオン交換膜の製造方法において、前段放射線の照射線量を1×10-2〜10Mrad/hとする。
請求項（抜粋）：
基材に重合性モノマーを含浸担持し、該重合性モノマーを前段で放射線の照射線量率が1×10-2〜10Mrad/hの電離性放射線の照射により一部反応させ、後段で重合開始剤の存在下加熱により残部を重合させ、必要に応じてイオン交換基を導入することを特徴とするイオン交換膜の製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
