特許

J-GLOBAL ID：200903079955081367

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 武田 和彦
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 丸山 敏之 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340080
公開番号（公開出願番号）：特開平6-187613
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドの製造方法において、絶縁膜3中に埋設された下部磁性コア2の表面を平面研磨によって露出させる工程にて、研磨後の下部磁性コア2の厚さを高精度且つ容易に制御することが出来る薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【構成】 基板1上には、下部磁性コア2の近傍に、下部磁性コア2よりも薄い平板状の研磨モニタ9を形成した後、下部磁性コア2及び研磨モニタ9を絶縁膜3にて覆い、平面研磨時には、絶縁膜3上に観察される干渉縞E′、D′のずれLに基づいて、研磨モニタ9上の絶縁膜3の厚さdを測定しつつ、下部磁性コア2の研磨量を制御する。

請求項（抜粋）：

基板(1)上に複数の磁性コア(2)(21)を積層してなる薄膜磁気ヘッドの製造方法において、基板(1)上に磁性コア(2)を絶縁膜(3)中に埋設して形成した後、平面研磨により磁性コア(2)の表面を平坦化して磁性コア(2)を所定厚さに仕上げる工程にて、基板(1)上には、磁性コア(2)の近傍に、磁性コア(2)と同一資材を用いて磁性コア(2)の仕上げ厚さよりも薄い平板状の研磨モニタ(9)を形成した後、磁性コア(2)及び研磨モニタ(9)を絶縁膜(3)にて覆い、平面研磨時には、絶縁膜(3)上に観察される干渉縞に基づいて、研磨モニタ(9)上の絶縁膜(3)の厚さを測定しつつ、磁性コア(2)の研磨量を制御することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。