特許

J-GLOBAL ID：200903079965465007

平面干渉計

発明者： 市川 元 ,  福田 裕介 ,  山本 貴広 ,  杉山 喜和
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050416
公開番号（公開出願番号）：特開2000-249511
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 平面が重力に対して垂直に設置された状態で測定される場合においても、平面度の絶対校正を可能とする。【解決手段】 本発明に係る平面干渉計は、平面である被検面の面精度誤差として、被検面の絶対平面度誤差の2次残差(絶対平面度誤差を2次関数でフィッティングした残差)を校正する第1の校正手段と、被検面の幾何学形状(平面)の誤差成分として、被検面の絶対平面度誤差の2次成分(2次関数でフィッティングされた成分)を校正する第2の校正手段とを有してなる。

請求項（抜粋）：

光源から出射された測定用光束を、被検物の被検面と同じ幾何学形状を有する測定波面に変換して被検物の被検面に照射し、被検面から反射された測定波面と、前記光源から出射されて、参照波面とを互いに干渉させ、干渉により生じる干渉縞被検面の面精度誤差(面形状の幾何学形状からの乖離の内、幾何学形状の誤差成分は含まない、うねり誤差成分)を計測する干渉計であって、前記幾何学形状が平面であり、被検面の面精度誤差として、被検面の絶対平面度誤差の2次残差(絶対平面度誤差を2次関数でフィッティングした残差)を校正する第1の校正手段と、被検面の幾何学形状(平面)の誤差成分として、被検面の絶対平面度誤差の2次成分(2次関数でフィッティングされた成分)を校正する第2の校正手段とを有してなることを特徴とする平面干渉計。

IPC (2件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/30 101

FI (2件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/30 101 A

Fターム (29件)：

2F064AA09 ,  2F064DD01 ,  2F064DD09 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG22 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA47 ,  2F065AA54 ,  2F065DD04 ,  2F065EE00 ,  2F065FF52 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL17 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065MM14 ,  2F065MM24 ,  2F065MM28 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13