特許
J-GLOBAL ID：200903079966388405
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-310378
公開番号（公開出願番号）：特開平7-164175
出願日： 1993年12月10日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：
【要約】【目的】 容易に、レーザービーム入射側を出射側より大きく加工することができるレーザ加工装置を提供すること。【構成】 アブレーションマスク5のレーザ透過孔10には合成石英ガラス11が挿入されており、その合成石英ガラス11上の周縁部13にはエキシマレーザビームを60%反射する多層反射膜14がコーティングされている。このため、前記透過孔10の中心部12を通過したエキシマレーザビームのエネルギー密度に比べて、前記透過孔10の周縁部13を通過したエキシマレーザビームのエネルギー密度は40%となる。従って、ノズルプレートには、中心部12に対応する貫通孔と、周縁部13に対応する貫通しない孔とが同時に加工され、段付きノズルが一工程にて作製される。
請求項（抜粋）：
マスクのレーザビーム透過領域を透過したレーザビームによって被加工物を加工するレーザ加工装置において、前記レーザビーム透過領域は、レーザビーム透過率が異なる2以上の領域からなることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (2件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00 330
