耐熱性ポジ型フオトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258446
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005995
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【目的】感光性を有する樹脂成分がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】特定構造を有するポリイミド前駆体などの樹脂成分に、活性光線の照射によって塩基性を呈する化合物を含有させることによって、耐熱性の良好なフォトレジスト組成物を得ることができ、また、この組成物を基材上に塗設してなる感光性基材を用いてパターン形成すると良好なパターンが形成される。

請求項（抜粋）：

下記(化1)にて示される構造単位を有する樹脂成分と、【化1】(但し、(化1)中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R1 およびR2 はそれぞれ4価および2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基である。)活性光線の照射によって塩基性を呈する化合物、とを含有してなる耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 504 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-298947
特開昭58-223147
特開平3-000763

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