特許

J-GLOBAL ID：200903079983811125

電解加工機の接触検知方法

発明者： 岸 治徳 ,  吉岡 省吾 ,  今井 資治
出願人/特許権者： 静岡製機株式会社
代理人 (1件)： 西郷 義美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360665
公開番号（公開出願番号）：特開平5-177439
出願日： 1991年12月28日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 外乱・外部条件や加工用電源の影響を受けることなく、電解液中において電極及び被加工物の接触を的確・迅速に検知する。【構成】 電解液中に浸漬して所定間隙で対向配設した電極及び被加工物間にパルス電流を印加するとともにパルス電流の印加終了後に電極及び被加工物間に電解液を噴射供給すべく制御する制御手段を備える。電解液中に補助電極を浸漬して設ける。制御手段によって、先ず第1充電回路により電極及び補助電極間に所定電位差を生じさせるべく急速に電源を供給し、次いで電極及び補助電極間に生じた所定電位差を維持させるべく第2充電回路により電源を供給し、その後に検出回路の検出する電極及び補助電極間の検出電位差の変化状態により電極及び被加工物の接触を検知する。

請求項（抜粋）：

所定形状の電極面を有する電極と前記電極面に倣って加工される加工面を有する被加工物とを電解液中に浸漬して所定間隙で対向配設し、この所定間隙で対向配設した前記電極及び被加工物間にパルス電流を印加するとともに前記パルス電流の印加終了後に前記電極及び被加工物間に清浄な電解液を噴射供給すべく制御する制御手段を備えた電解加工機において、前記電解液中に補助電極を浸漬して設け、前記電極及び補助電極間に所定電位差を生じさせるべく急速に電源を供給する第1充電回路を設け、前記電極及び補助電極間に生じた前記所定電位差を維持させるべく電源を供給する第2充電回路を設け、前記電極及び補助電極間の電位差を検出する検出回路を設け、前記制御手段によって、先ず前記第1充電回路により前記電極及び補助電極間に所定電位差を生じさせるべく急速に電源を供給し、次いで前記電極及び補助電極間に生じた前記所定電位差を維持させるべく前記第2充電回路により電源を供給し、その後に前記検出回路の検出する前記電極及び補助電極間の検出電位差の変化状態により前記電極及び被加工物の接触を検知することを特徴とする電解加工機の接触検知方法。