特許
J-GLOBAL ID：200903079994164687
電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、および磁界分布計算プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
高橋 省吾
, 稲葉 忠彦
, 村上 加奈子
, 中鶴 一隆
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005018627
公開番号（公開出願番号）：WO2007-043160
出願日： 2005年10月07日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
金属構造体が金属シート構造を含む場合にも高精度に電磁界解析が可能な電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、及び電磁界分布計算プログラムを提供する。 この発明の電磁界分布計算方法では、金属構造体表面を金属要素に分割し、各金属要素上に流れるループ電流値を変数として設定するステップ、交番磁界発生源から送信された金属要素上での磁束密度を外部磁束密度として計算するステップ、外部磁束密度とループ電流値とを用いて、各金属要素における磁場の法線方向成分が0となる方程式を各金属要素に対して導出し、金属構造体が孔を含む場合、孔の外周を流れる電流値を変数として設定し孔に対しファラデーの法則を用いた方程式を導出し、これら方程式を連成させて連立方程式を構築するステップ、連立方程式を解いて前記各電流値を求めるステップ、及び得られた電流値を用いて金属構造体周辺の電磁界分布を計算するステップを施す。
請求項（抜粋）：
交番磁界発生源から送信される電磁界の波長が金属構造体の大きさより大きい場合の、前記金属構造体周辺の電磁界分布を計算する際に、前記金属構造体表面を複数の微小面積からなる金属要素に分割し、各金属要素上に流れるループ電流値を変数として設定する第1のステップ、前記交番磁界発生源から送信された前記金属要素上での磁束密度を外部磁束密度として計算する第2のステップ、前記外部磁束密度と前記ループ電流値とを用いて、各金属要素における磁場の法線方向成分が0となる方程式を、前記各金属要素に対してそれぞれ導出し、前記金属構造体が孔を含む場合は、前記孔の外周を流れる電流値を変数として設定して前記孔に対しファラデーの法則を用いた方程式を導出し、導出された前記孔に対する方程式と、前記各金属要素に対して導出された方程式とを、前記孔の外周を流れる電流と前記各金属要素上を流れるループ電流との相互作用を考慮して連成させて、前記各金属要素と前記孔とに対する連立方程式を構築する第3のステップ、連立方程式を解いて、前記各金属要素上に流れるループ電流値と前記孔の外周を流れる電流値とを求める第4のステップ、及び得られた前記ループ電流値と前記孔の外周を流れる電流値とを用いて、金属構造体周辺の電磁界分布を計算する第5のステップを施すことを特徴とする電磁界分布計算方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G06F17/50 612H
, G06F17/50 680Z
