特許
J-GLOBAL ID:200903080002350911

色変換フィルタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 昭彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-024598
公開番号(公開出願番号):特開2003-229261
出願日: 2002年01月31日
公開日(公表日): 2003年08月15日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減によりコストを低減し、混色が容易に防止でき、高精細なパターニングが可能な色変換フィルタの提供を主目的とする。【解決手段】基材表面に光触媒を含有する光触媒含有層側基板を調製する工程と、基板上に隔壁を形成する隔壁形成工程と、隔壁が形成された基板表面に、光触媒含有層中の光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層形成工程と、濡れ性変化層表面に、光触媒含有層が接触するように配置し、又は光触媒含有層の光触媒の作用が濡れ性変化層表面に及ぶ距離を隔てて配置した後、上記隔壁間の領域の濡れ性が液体との接触角の低い親液性領域となるようにエネルギーのパターン照射を行う工程と、上記親液性領域となった隔壁間の領域に、インクジェット法で色変換層形成用塗工液を塗布し、固化させて色変換層を形成する工程とを有することを特徴とする色変換フィルタの製造方法。
請求項(抜粋):
基材と、前記基材表面に形成された光触媒を含有する光触媒含有層とを有する光触媒含有層側基板を調製する光触媒含有層側基板調製工程と、基板上に隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁が形成された基板表面に、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、前記濡れ性変化層表面に、前記光触媒含有層が接触するように前記光触媒含有層側基板を配置し、もしくは前記光触媒含有層の光触媒の作用が前記濡れ性変化層表面に及ぶ距離を隔てて前記光触媒含有層側基板を配置した後、前記隔壁間の領域の濡れ性が液体との接触角の低い親液性領域となるようにエネルギーのパターン照射を行うエネルギー照射工程と、前記親液性領域となった隔壁間の領域に、インクジェット法により色変換層形成用塗工液を塗布し、固化させて色変換層を形成する色変換層形成工程とを有することを特徴とする色変換フィルタの製造方法。
IPC (5件):
H05B 33/12 ,  B41J 2/01 ,  G02B 5/20 101 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (6件):
H05B 33/12 E ,  H05B 33/12 B ,  G02B 5/20 101 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  B41J 3/04 101 Z
Fターム (11件):
2C056FB01 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB04 ,  3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01

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