特許
J-GLOBAL ID：200903080018227648
真空式ラミネータ装置及びその方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138225
公開番号（公開出願番号）：特開平11-320682
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：
【要約】【課題】フィルムに塗布された接着面と基板との間に気泡やシワが生じないようにした真空式ラミネート装置及びそのための方法を提供すること。【解決手段】相対向して接近離間するブロック体(2,3) を有し、加熱手段及び真空加圧手段を備えた真空室4と、この前段に隣接し、基材フィルム12と保護フィルム11を各々掛け渡たす一対のガイドロール(5,6) と、上記2つのフィルムと基板14を搬送するキャリアフィルム15とを同時に送出する送出装置と、基材ロール7と保護フィルムロール8の回転を送出装置を介して制御し、かつ加熱手段及び真空加圧手段を制御するための制御装置とを備え、基板14の先端付近に基材フィルムと保護フィルムの分離点を維持しつつ、この2つのフィルムを基板とともに前進させ、真空室内において基板14を覆った基材フィルム12の内側から保護フィルム11を剥離して真空室外に排出して、接着面が露出する基材フィルム12と基板14を真空室内で加熱圧着する。
請求項（抜粋）：
基材ロールから供給されるフィルムを基板供給ライン上の基板の移動方向に合わせて搬送し、前記フィルムから保護フィルムを分離して、接着面が露出する基材フィルムと前記基板を真空室内で加熱圧着する真空式ラミネータ装置であって、前記基板供給ラインの途中に相対向して接近離間できるように配置され、かつ前記ライン上に入口と出口を形成する一対のブロック体を有し、さらに、室内を加熱するための加熱手段と、室内を減圧しかつ前記基板とフィルムを挾持して押圧力を与えるための真空加圧手段を備えた真空室と、この真空室の前段で前記基板供給ラインに隣接して配置され、一方は前記基材ロールからのフィルムが掛け渡され、他方は、保護フィルムロールに巻き付けられる保護フィルムを掛け渡たすための一対のフィルムガイドと、前記基材フィルムを前進させるとともに、この前進動作に合わせて別のフィルム上に載置された基板を順次搬送する送出装置と、前記基板の先端付近に前記基材フィルムと保護フィルムの分離点を維持しつつ前記2つのフィルムを基板とともに前進させ、真空室内において基板を覆った基材フィルムの内側から保護フィルムを剥離して真空室外に排出するために、前記基材ロールと保護フィルムロールの回転を前記送出装置とともに制御し、かつ真空室の前記加熱手段及び真空加圧手段を制御するための制御装置とを備えていることを特徴とする真空式ラミネータ装置。
IPC (3件)：
B29C 63/02
, B32B 31/20
, B29L 9:00
