特許
J-GLOBAL ID：200903080024309176
レーザ照射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172896
公開番号（公開出願番号）：特開平7-024587
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【目的】 レーザ照射して加工するのに、所定以外のエネルギ強度分布のレーザ光による加工の失敗をなくせるようにする。【構成】 集積レーザ光51aのワーク52への照射光路に、このレーザ光51aのエネルギ強度分布を測定する測定部材64と、この測定部材64を透過する前記レーザ光51aが所定のエネルギ分布であれば透過し所定以外のエネルギ強度分布であれば遮断する遮断手段65とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ワークと、このワークに集積したレーザ光で小断面積のビームを重ねながら照射する光学系との相対移動により、ワークの所定の部分を前記レーザ光にてスキャンし加工を行うレーザ照射装置において、前記集積レーザ光の照射光路に、このレーザ光のエネルギ強度分布を測定する測定部材と、この測定部材を透過する前記レーザ光が所定のエネルギ分布であれば透過し所定以外のエネルギ強度分布であれば遮断する遮断手段とを備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (4件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, H01L 21/20
, H01L 21/268
