特許

J-GLOBAL ID：200903080025874772

イオン注入装置

発明者： 冨田 博之 ,  米良 和夫 ,  山下 泰郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-217085
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064471
出願日： 1996年08月19日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】最適なウエハの冷却でイオンビームをウエハに注入可能なイオン注入装置を提供する。【解決手段】イオン源から取り出されたイオンビームをウエハに打込むイオン注入装置において、ウエハ保持手段が、イオンビームが上記ウエハに照射する面と反対側の面で上記ウエハを保持するウエハホルダからなり、上記ウエハと上記ウエハホルダとの間に、上記ウエハホルダと輻射率の異なる材料の輻射材を設置した。

請求項（抜粋）：

イオン源から取り出されたイオンビームをウエハに打込むイオン注入装置において、ウエハ保持手段が、イオンビームが上記ウエハに照射する面と反対側の面で上記ウエハを保持するウエハホルダからなり、上記ウエハと上記ウエハホルダとの間に、上記ウエハホルダと輻射率の異なる材料の輻射材を設置したことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/265

FI (4件)：

H01J 37/317 B ,  C23C 14/48 Z ,  H01J 37/20 A ,  H01L 21/265 E