X線露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005605
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216009
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 LFZPを利用し、高精度のアライメントが可能でプロキシミティギャップも一定値に維持することのできるX線露光装置を提供すること。【構成】マスクマーク12及びウェハマーク11をそれぞれリニア・フレネル・ゾーン・プレートで構成し、これらのマスクマーク及びウェハマークに対して照射光を斜めに照射する。光学系33は、前記マスクマーク及びウェハマークによる集光像をラインセンサ34と2次元センサ35とに結像させる。第1の画像処理装置36は、前記ラインセンサにおける各マークの集光像の位置関係を検出する。第2の画像処理装置37は、前記2次元センサにおける各マークの集光像のフォーカスを検出する。前記第1の画像処理装置の出力でマスクステージ、ウェハステージの一方が制御され、前記第2の画像処理装置の出力で前記マスクステージと前記ウェハステージのフォーカス制御が行なわれる。

請求項（抜粋）：

マスクに付されたマスクアライメントマーク(以下、マスクマークと呼ぶ)とウェハに付された一対のウェハアライメントマーク(以下、ウェハマークと呼ぶ)とを検出してウェハの位置合わせ制御を行うX線露光装置において、前記マスクマーク及びウェハマークをそれぞれリニア・フレネル・ゾーン・プレートで構成し、これらのマスクマーク及びウェハマークに対して照射光を斜めに照射する手段と、前記マスクマーク及びウェハマークによる集光像をラインセンサと2次元センサとに結像させる光学系と、前記ラインセンサにおける各マークの集光像の位置関係を検出するための第1の画像処理装置と、前記2次元センサにおける各マークの集光像のフォーカスを検出する第2の画像処理装置とを含み、前記第1の画像処理装置の出力でマスクステージ、ウェハステージの一方を制御し、前記第2の画像処理装置の出力で前記マスクステージと前記ウェハステージのフォーカス制御を行うようにしたことを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 331 A , H01L 21/30 311 G

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