特許
J-GLOBAL ID：200903080034680948
リフロー半田付け装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-318268
公開番号（公開出願番号）：特開平5-154649
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：
【要約】【目的】 搭載部品を回路基板に、半田付け表面実装するリフロー半田付け装置に関し、シャッターが誤動作する恐れがなくて、リフロー半田付炉内の窒素ガスの濃度が所定に保持される装置を提供することを目的とする。【構成】 炉内に窒素ガスが投入されたリフロー半田付炉1の前部に前予備室2を、後部に後予備室3をそれぞれ備え、リフロー半田付炉1,前予備室2,後予備室3の出入口に、所望に駆動するシャッターを備えたリフロー半田付け装置において、ダクト内に冷却パイプ56が配管され、開口部53に所定に開閉するシャッター61を有する前排気ダクト51を前予備室2に連通する如くに設けるとともに、ダクト内に冷却パイプ57が配管され、開口部54に所定に開閉するシャッター62を有する後排気ダクト52を後予備室3に連通する如くに設けた構成とする。
請求項（抜粋）：
センサが回路基板(5) を検出すると所定に開閉駆動するシャッターを、炉入口(22)と炉出口(23)のそれぞれに有し、炉内に窒素ガスが投入されてなるリフロー半田付炉(1) と、センサが該回路基板(5) を検出すると所定に開閉駆動するシャッター(31)を、前予備室入口(21)に有し、該炉入口(22)の前方に設置された前予備室(2) と、センサが回路基板(5) を検出すると所定に開閉駆動するシャッター(34)を、後予備室出口(24)に有し、該炉出口(23)の後方に連通して設置された後予備室(3)とで構成され、搭載部品(6) を該回路基板(5) にリフロー半田付けする装置において、開口部(53)が該前予備室(2) に連通し、少なくとも該炉入口(22)のシャッター(32)が開の時に該開口部(53)を開とするシャッター(61)、及びダクト内を所望の低温とする冷却パイプ(55)を有する前排気ダクト(51)と、開口部(54)が該後予備室(3) に連通し、少なくとも該炉出口(23)のシャッター(33)が開の時に該開口部(54)を開とするシャッター(62)、及びダクト内を所望の低温とする冷却パイプ(56)を有する後排気ダクト(52)とを備え、該前予備室(2) の側壁に設けた該前排気ダクト(51)の開口部(53)は、該炉入口(22)のシャッター(32)の前後に設置したセンサ(43,44) に近い位置に設けられたものであり、該後予備室(3) の側壁に設けた該後排気ダクト(52)の開口部(54)は、該炉出口(23)のシャッター(33)の前後に設置したセンサ(45,46) に近い位置に設けられたものであることを特徴とするリフロー半田付け装置。
IPC (3件)：
B23K 1/012
, B23K 1/008
, H05K 3/34
