特許
J-GLOBAL ID：200903080036811802
光導波路形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-191679
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034527
出願日： 1991年07月31日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 新規な光導波路形成方法を提供する。【構成】 ゾルゲル法により作製した機能性化合物を添加したシリカ系ガラスに金属膜からなる保護マスクパターンを形成する工程と、上記保護マスクパターンが形成されたシリカ系ガラスに対し反応性ガスによる異方性エッチングを行うことにより光導波路を形成する工程とを有することを特徴とする光導波路の形成方法であり、特に好ましい実施態様として上記機能性化合物が、希土類元素イオン、半導体微粒子および非線形光学効果を有する有機化合物から選ばれる1以上とすることが挙げられる。本発明によれば添加物の量の制御や添加領域の制御が容易で、コア径を0.1μmオーダー、屈折率差を0.01%のレベルで制御でき精密な構造の光導波路を形成できる。
請求項（抜粋）：
ゾルゲル法により作製した機能性化合物を添加したシリカ系ガラスに金属膜からなる保護マスクパターンを形成する工程と、上記保護マスクパターンが形成されたシリカ系ガラスに対し反応性ガスによる異方性エッチングを行うことにより光導波路を形成する工程とを有することを特徴とする光導波路の形成方法。
IPC (4件)：
G02B 6/12
, C03B 8/02
, C03B 20/00
, C03C 15/00
