特許

J-GLOBAL ID：200903080039461004

浸透的及び機械的に安定なゲル様の陰イオン交換体の製造方法

発明者： リユトイエンス,ホルガー ,  クリツパー,ラインホルト ,  マルテイン,ゲオルク ,  ミチユカー,アルフレート ,  ホルツブレヒヤー,ミヒヤエル
出願人/特許権者： バイエル アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-544704
公開番号（公開出願番号）：特表2002-512274
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：

【要約】本発明は、無機塩の存在下及び有機溶媒の非存在化下で、アルキルハライド基を有する架橋したゲル様のスチレンジビニルベンゼンベビーズポリマーのアミノ化による、ゲル様の陰イオン交換体の製造方法に関する。

請求項（抜粋）：

浸透的及び機械的に安定なゲル様陰イオン交換体の製造方法であって、ハロゲノアルキル基を有する架橋したゲル様のスチレンジビニルベンゼンビーズポリマーが、水の総量に基づき5重量%未満の無機塩の存在下でアミノ化されることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

C08F 8/32 ,  B01J 41/14

FI (2件)：

C08F 8/32 ,  B01J 41/14 F

Fターム (11件)：

4J100AB02P ,  4J100AB16Q ,  4J100BA29H ,  4J100BB01H ,  4J100CA21 ,  4J100CA31 ,  4J100HA61 ,  4J100HC05 ,  4J100HC43 ,  4J100HC45 ,  4J100JA16