特許
J-GLOBAL ID：200903080043967761
ガラス基板の片面研磨における研磨液の供給方法および片面研磨装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-067230
公開番号（公開出願番号）：特開2004-276133
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】研磨盤外周部への研磨液の供給不足によるが研磨後のガラス基板外周部における研磨ムラ(表面凹凸)の発生を抑制する。【解決手段】揺動する自転軸8を中心に自転可能な加圧盤1の盤面に貼着された多孔質軟質樹脂製シートからなる吸着パッド6により吸着保持したガラス基板Gを加圧盤1で回転する研磨盤2上の研磨布9に押圧し、研磨砥粒を水に分散させスラリーとした研磨液を供給しつつガラス基板Gを研磨するガラス基板Gの片面研磨における研磨液の供給方法であって、研磨液を研磨盤中央の供給口から供給するとともに、加圧盤外周縁部に添うように配設して加圧盤1とともに揺動する少なくとも1箇所以上の給液ノズル4から供給することを特徴とするガラス基板Gの片面研磨における研磨液の供給方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
揺動する自転軸を中心に自転可能な加圧盤の盤面に貼着された多孔質軟質樹脂製シートからなる吸着パッドにより吸着保持したガラス基板を加圧盤で回転する研磨盤上の研磨布に押圧し、研磨砥粒を水に分散させスラリーとした研磨液を供給しつつガラス基板を研磨するガラス基板の片面研磨における研磨液の供給方法であって、研磨液を研磨盤中央の供給口から供給するとともに、加圧盤外周縁部に添うように配設して加圧盤とともに揺動する少なくとも1箇所以上の給液ノズルから供給することを特徴とするガラス基板の片面研磨における研磨液の供給方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
3C047FF08
, 3C047GG20
, 3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CA06
, 3C058CB01
