特許
J-GLOBAL ID：200903080059830618
粉体供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蔦田 璋子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-185462
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032436
出願日： 1992年07月13日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【構成】 有底および有蓋円筒状に形成されたケーシング30と、前記ケーシング30の内部に回転自在に設けられた円盤24と、前記円盤24の上面に設けられた周方向に延びる周溝28と、前記円盤24の上に配され、前記周溝28に相当する位置に厚み方向に貫通する粉体充填用孔54と粉体供給用孔56とが各々設けられたノズル板体50と、前記周溝28に前記粉体充填用孔54を介して粉体を充填するためのホッパー82と、前記周溝28から粉体供給用孔56を介して送り出されてくる粉体を外部に導くための粉体供給管76とを備えた粉体供給装置Aであって、前記円盤24とケーシング30が導電性材料からなり、前記ケーシング30を接地可能にするアース線A1と、前記円盤24と前記ケーシング30とを電通可能にするアース部材とを設けた。【効果】 前記円盤24の回転にともなって発生した静電気を、円盤24およびケーシング30を通じて電荷を逃がすことができるので、前記円盤24が帯電することがなく、前記周溝24に充填された粉体が帯電して凝集するようなおそれもない。
請求項（抜粋）：
有底および有蓋円筒状に形成されたケーシングと、前記ケーシングの内部に回転自在に設けられた円盤と、前記円盤の上面に設けられた周方向に延びる周溝と、前記円盤の上に配されるとともに前記ケーシングに固定され、前記周溝に相当する位置に厚み方向に貫通する粉体充填用孔と粉体供給用孔とが各々設けられた板体と、前記周溝に前記粉体充填用孔を介して粉体を充填するためのホッパーと、前記周溝から粉体供給用孔を介して送り出されてくる粉体を外部に導くための粉体供給管とを備えた粉体供給装置であって、前記円盤の少なくとも表面が導電性材料により構成され、前記円盤を接地可能にするアース部材が設けられてなり、前記円盤の回転にともなって該円盤に発生した静電気をアース部材を介して除去できるようにしたことを特徴とする粉体供給装置。
IPC (3件)：
B65G 43/00
, B65G 53/46
, B65G 65/48
