特許
J-GLOBAL ID：200903080063451222
電子線照射方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-064235
公開番号（公開出願番号）：特開平11-248894
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 食品や飲料容器等の被照射物に電子線を所定方向に繰り返しビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成するものにおいて、前記被照射物の肉厚が異なるものにおいても、照射方向各部位の電子線吸収量の均一化を可能とし得る電子線照射方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 前記電子線照射方向と対面して被照射物近傍に設置した一又は複数の反射板から反射する電子線により被照射物に吸収線量を付加させることにより、吸収線量の均一性を高めることを特徴とする電子線照射方法を提案する。この場合前記電子線反射板の取り付け位置は、電子線吸収量が最も少ない被照射物の所定部位に電子線が反射できる位置であるのが好ましい。
請求項（抜粋）：
食品や飲料容器等の立体形状の被照射物に、電子線を繰り返し二次元若しくは三次元方向にビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法において、前記電子線照射方向と対面して被照射物近傍に設置した一又は複数の反射板から反射する電子線により被照射物に吸収線量を付加させることにより、吸収線量の均一性を高めることを特徴とする電子線照射方法。
IPC (5件)：
G21K 5/04
, A23L 3/26
, A61L 2/08
, B65B 55/02
, H01J 37/30
G21K 5/04 E
, A23L 3/26
, A61L 2/08
, B65B 55/02 Z
, H01J 37/30 A
