特許
J-GLOBAL ID:200903080067666894
電極基板、静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び静電駆動デバイス並びにそれらの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
小林 久夫
, 安島 清
, 佐々木 宗治
, 大村 昇
, 高梨 範夫
, 山東 元希
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-160527
公開番号(公開出願番号):特開2007-326195
出願日: 2006年06月09日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
【課題】絶縁耐圧の低下がなく、また繰り返し衝突によっても膜剥がれのない駆動耐久特性に優れた絶縁膜を有する電極基板、その電極基板を有する静電アクチュエータ、その製造方法等を提供する。【解決手段】所定の間隔で対向する可動電極となる振動板22との間に静電気力を発生させて振動板22を変位させるための固定電極となる個別電極12を電極基板10上に形成する工程と、少なくとも個別電極12を覆う電極側絶縁膜15を形成する成膜処理と絶縁膜の洗浄及び表面改質を行う表面改質処理とを、所望の厚さの電極側絶縁膜15が成膜されるまで交互に繰り返す工程とを有する。【選択図】図4
請求項(抜粋):
所定の間隔で対向する可動電極を変位させるための固定電極を基板上に形成する工程と、
少なくとも固定電極を覆う絶縁膜を形成する成膜処理と前記絶縁膜の洗浄及び表面改質を行う表面改質処理とを、所望の厚さの絶縁膜が成膜されるまで交互に繰り返す工程と
を有することを特徴とする電極基板の製造方法。
IPC (6件):
B81C 1/00
, B81B 3/00
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, B41J 2/16
, H02N 1/00
FI (5件):
B81C1/00
, B81B3/00
, B41J3/04 103A
, B41J3/04 103H
, H02N1/00
Fターム (4件):
2C057AF93
, 2C057AG54
, 2C057AP53
, 2C057AP61
引用特許:
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