特許

J-GLOBAL ID：200903080071648957

多孔質基材における界面重合および光化学基で官能化された基材

発明者： リリング,ケン ,  ディクソン,ジェームズ ,  チルズ,ロナルド ,  ギャグノン,デビッド アール.
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー ,  マクマスター ユニバーシティー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-503543
公開番号（公開出願番号）：特表平8-511991
出願日： 1994年06月20日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】多孔質製品の製造方法を提供する。この方法は、多孔質基材を、その基材の細孔に入る第一反応物と接触させ;次いで第一反応物を保持する多孔質基材を、界面重合反応が第一反応物と反応できる第二反応物と接触させる;ことを含んでなり;第一と第二の反応物の量が、生成したポリマーによって基材の細孔の閉塞が全く起こらないかまたは実質的に起こらないように選択される;方法である。またこの発明は、光化学的に反応性でかつ紫外線、可視光線または近赤外線の照射に露出されると実質的に不可逆の化学変化を受けることができる化合物を保持する多孔質製品を提供するものである。上記光化学的に反応性の化合物は、照射とその後の反応で誘導体化され、広範囲の有用な膜、例えば精密濾過または生化学の反応と分離に用いる膜を提供することができる。

請求項（抜粋）：

多孔質基材を、その基材の細孔に入る第一反応物と接触させ;次いで 第一反応物を保持する多孔質基材を、界面重合反応で第一反応物と反応できる第二反応物と接触させる;ことを含んでなり; 第一と第二の反応物の量が、生成したポリマーによって基材の細孔の閉塞が全く起こらないかまたは実質的に起こらないように選択される;製品の製造方法。

IPC (7件)：

B01D 69/14 ,  B01D 67/00 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/30 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/68

FI (7件)：

B01D 69/14 ,  B01D 67/00 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/30 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/68