特許
J-GLOBAL ID：200903080073282917

表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置

発明者：
近藤 洋文

近藤 洋文 について

, 
花岡 英章

花岡 英章 について

, 
小林 富夫

小林 富夫 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-276315
公開番号（公開出願番号）：特開平10-120443
出願日： 1996年10月18日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：
【要約】【課題】優れた耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などが要求される反射防止性を有する表示装置等に適用され、均一塗布性に優れた表面改質膜用組成物、この組成物により成膜された表面改質膜、それを有するフィルター、表示装置を提供する。【手段】下記一般式(1)及び/又は(2)で示されるアルコキシシラン化合物をアルコール系溶剤と炭化水素系溶剤との混合溶媒に溶解して組成物を調製し、これを用いて表面改質膜を成膜し、フィルター、表示装置を得る。式中、Rfはフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、jは1又は2である。Rf{-R1-R2-Si(OR3)3}j ...(1)Rf{Si(OR3)3}j...(2)
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)及び/又は(2)で示されるアルコキシシラン化合物をアルコール系溶剤と炭化水素系溶剤との混合溶媒に溶解してなることを特徴とする表面改質膜用組成物。Rf{-R1-R2-Si(OR3)3}j ...(1)Rf{Si(OR3)3}j ...(2)(但し、式中、Rfはフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基、R1は二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、jは1又は2である。)
IPC (6件)：
C03C 17/30 ,  G02B 1/11 ,  G09F 9/00 318 ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/89 ,  G02F 1/1335
FI (6件)：
C03C 17/30 B ,  G09F 9/00 318 Z ,  H01J 5/08 ,  H01J 29/89 ,  G02F 1/1335 ,  G02B 1/10 A
引用特許：
審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM