特許

J-GLOBAL ID：200903080084745587

投射装置

発明者： 下村 英明 ,  小山 元夫 ,  服部 徹夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-140887
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334726
出願日： 1995年06月07日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】 変調素子からの反射光をミラーに集光させるようにすることにより、ミラーの寿命を向上させ、設計自由度の高い投射装置を提供することを目的とする。【構成】 投射装置は、光源3から出射される光源光を整形光学系にて略平行光に整形し、該整形光学系を出射した略平行光を変調光学素子1に読みだし光として入射させることにより読み出し光学系を構成し、且つ該変調光学素子1により変調を受けて出射される投射光を集光レンズ4にて読み出し光学系上に配置されるミラー6上に集光させ、該ミラーにて反射、方向を変換した投射光を投射レンズ8にてスクリーン9上に投射する構成である。

請求項（抜粋）：

光源から変調光学素子に入射する読み出し光が構成する読み出し光学系と該変調光学素子から出射される投射光の構成する投射光学系が異なる、いわゆるシュリーレン光学系投射装置において、光源から出射される光源光を整形光学系にて略平行光に整形し、該整形光学系を出射した略平行光を変調光学素子に読みだし光として入射させることにより読み出し光学系を構成し、且つ該変調光学素子により変調を受けて出射される投射光を集光レンズにて読み出し光学系上に配置されるミラー上に集光させ、該ミラーにて反射、方向を変換した投射光を投射レンズにてスクリーン上に投射する事により投射光学系を構成すること特徴とする投射装置。

IPC (6件)：

G02B 27/18 ,  G02B 27/54 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/00 ,  G03B 33/12 ,  H04N 5/74

FI (6件)：

G02B 27/18 Z ,  G02B 27/54 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/00 D ,  G03B 33/12 ,  H04N 5/74 A