特許
J-GLOBAL ID：200903080088991531
間接加熱式キルン
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高橋 昌久
, 松本 廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-054335
公開番号（公開出願番号）：特開2008-215723
出願日： 2007年03月05日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】装置構成が複雑とならず従って装置の製造コストが高くなることなく、従来よりも伝熱効率の高い間接加熱式キルンを提供する。【解決手段】 被処理物を回転させながら加熱処理する回転ドラムと、該回転ドラム外周に設けられた外筒とを有し、前記回転ドラム外表面と前記外筒の内表面の間に形成される加熱室に加熱媒体を導入して前記回転ドラム外周に沿って通流させることで前記回転ドラムに伝熱して加熱する間接加熱式キルンにおいて、前記加熱室内を通流する加熱媒体の流路の断面積を加熱媒体流れ方向に向かって連続的又は段階的に小さくするとともに、前記加熱媒体の加熱室入口部の流速をV1、前記加熱媒体の加熱室出口部の流速をV2とした時に、V1≦V2となるように、前記加熱室における加熱媒体の流路入口断面積と流路出口断面積の比を設定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理物を回転させながら加熱処理する回転ドラムと、該回転ドラム外周に設けられた外筒とを有し、前記回転ドラム外表面と前記外筒の内表面の間に形成される加熱室に加熱媒体を導入して前記回転ドラム外周に沿って通流させることで前記回転ドラムに伝熱して加熱する間接加熱式キルンにおいて、
前記加熱室内を通流する加熱媒体の流路の断面積を加熱媒体流れ方向に向かって連続的又は段階的に小さくするとともに、
前記加熱媒体の加熱室入口部の流速をV1、前記加熱媒体の加熱室出口部の流速をV2とした時に、V1≦V2となるように、前記加熱室における加熱媒体の流路入口断面積と流路出口断面積の比を設定することを特徴とする間接加熱式キルン。
IPC (4件)：
F27B 7/34
, F27B 7/08
, C10B 53/00
, C10B 47/30
F27B7/34
, F27B7/08
, C10B53/00 A
, C10B47/30
4H012HA03
, 4K061AA08
, 4K061BA06
, 4K061BA12
, 4K061CA02
, 4K061DA01
, 4K061DA03
