特許
J-GLOBAL ID：200903080093325620

露光用マスク

発明者：
川野 健二

川野 健二 について

, 
田中 聡

田中 聡 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-009404
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197651
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】堀込み部の側壁に起因するレジストパターンの寸法差を極めて小さくすることができ、より高精度なパターン転写を可能とする。【課題】 露光光に対して透明な基板11上に遮光パターン12と透明開口部を有し、透明基板11が掘込まれかつ掘込み量が隣接する開口部で交互に異なるように調整された領域を有する露光用マスクにおいて、基板11が掘込まれた領域は、透明開口幅d2 と堀込み部底部寸法a2 がほぼ等しく、かつ堀込み部上端が遮光膜12に対し該遮光膜12のエッジ部よりも内側に設定されている。【解決手段】
請求項（抜粋）：
露光光に対して透過な基板上に遮光パターンと開口部を有し、前記透過な基板が掘込まれかつ掘込み量が隣接する堀込み部で交互に異なるように調整された領域を有する露光用マスクにおいて、前記基板が掘込まれた領域は、前記開口幅と前記堀込み部の底部寸法がほぼ等しく、かつ堀込み部上端が前記遮光パターンに対し該遮光パターンのエッジ部よりも内側に設定されてなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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