特許
J-GLOBAL ID：200903080093759620
プラズマ撥水処理方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-233376
公開番号（公開出願番号）：特開平5-068874
出願日： 1991年09月12日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】高周波電源11により電極4からプラズマを発生させるのとは別に被処理材バイアス電源9で治具6に固定されている被処理材5にバイアスを印加することにより、プラズマにより生成されたフッ素イオンあるいはフッ素系イオンが被処理材に印加したバイアス電圧で加速されて前記被処理材表面に突入し、強制的に前記被処理材表面にフッ素を含む層を形成する。【効果】従来では困難とされていた被処理材である金属あるいはガラスのプラズマによる撥水処理が可能となる。
請求項（抜粋）：
真空容器内を真空排気後所定のプロセスガスを導入しプラズマを発生させ、前記真空容器内に収容した被処理材の処理を行うプラズマ処理方法において、フッ素系のガスをプロセスガスとして用い、プラズマを発生させ、前記プラズマを発生させる手段とは別に設けた手段で該被処理材にバイアスを印加して行うことを特徴とするプラズマ撥水処理方法。
IPC (4件)：
B01J 19/08
, C23C 14/12
, C23C 14/48
, C09K 3/18 101
