特許

J-GLOBAL ID：200903080095312410

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 井上 充
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-318615
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149974
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 基板ステージへの床の振動の伝達を有効に防止する。【解決手段】 基板を載せて移動するステージをその移動を許容するようにステージ定盤7上に支持し、ステージ定盤7を水平面内で移動可能にベース部材10上にエアベアリング等64で支持するとともに、ステージの加減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定盤にリニアモータ65〜68で推力を付与する。

請求項（抜粋）：

ステージ定盤と、このステージ定盤上で水平な所定の方向に移動可能に支持されたステージと、このステージをステージ定盤上で前記所定方向に移動させるステージ駆動手段と、ベース部材と、このベース部材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移動可能に支持する定盤支持手段と、ステージの加減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定盤に推力を付与する推力付与手段とを具備することを特徴とするステージ装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B23Q 1/25 ,  B23Q 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

H01L 21/30 516 B ,  B23Q 11/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 B ,  H01L 21/30 515 G ,  B23Q 1/18 A