CVD成膜装置及びCVD膜コーティングプラスチック容器の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (2件)：今下勝博 , 岡田賢治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-336362
公開番号（公開出願番号）：特開2005-105294
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】本発明の目的は、プラスチック容器の形状に制約されずに自己バイアス電圧を印加させて成膜でき且つ電極へのダスト付着を防止したCVD成膜装置を提供することである。【解決手段】本発明に係るCVD成膜装置は、容器を収容するための空所を有し、容器内部ガスと容器外部ガスとが相交わらないように容器を空所に収容し得る真空チャンバーを兼用する容器側電極と、容器側電極と絶縁状態で容器の開口部上方に配置した口側電極と、容器の内部に挿脱自在に配置され、原料ガス等の容器内部ガスを容器の内部に導入する絶縁材からなる内部ガス導入管と、容器内部ガス供給手段と、原料ガス等の容器外部ガスを空所内で容器外部に供給する容器外部ガス供給手段と、容器内部ガスを排気する排気手段と、容器側電極に高周波を供給する高周波供給手段と、を備えることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラスチック容器を収容するための空所を有し、前記プラスチック容器の容器内部ガスと容器外部ガスとが相交わらないように前記プラスチック容器を前記空所に収容し得る真空チャンバーを兼用する容器側電極と、該容器側電極と絶縁状態で前記プラスチック容器の開口部上方に配置した口側電極と、前記プラスチック容器の内部に挿脱自在に配置され、プラズマ化させる原料ガス若しくは放電ガスである前記容器内部ガスを前記プラスチック容器の内部に導入する絶縁材からなる内部ガス導入管と、前記容器内部ガスを前記内部ガス導入管に供給する容器内部ガス供給手段と、プラズマ化させる原料ガス若しくは放電ガスである前記容器外部ガスを前記空所内で容器外部に供給する容器外部ガス供給手段と、前記容器内部ガスを排気する排気手段と、前記容器側電極に高周波を供給する高周波供給手段と、を備えることを特徴とするCVD成膜装置。

IPC (4件)：

C23C16/505 , B65D1/09 , B65D23/02 , B65D23/08

FI (4件)：

C23C16/505 , B65D23/02 Z , B65D23/08 B , B65D1/00 C

Fターム (28件)：

3E033AA01 , 3E033BA18 , 3E033BA30 , 3E033BB08 , 3E033CA16 , 3E033DA03 , 3E033DA08 , 3E033DD01 , 3E033DD02 , 3E033EA10 , 3E062AA09 , 3E062AC02 , 3E062JA01 , 3E062JA07 , 3E062JA08 , 3E062JB24 , 3E062JC01 , 3E062JD01 , 4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030AA16 , 4K030BA28 , 4K030CA07 , 4K030CA15 , 4K030CA16 , 4K030FA01 , 4K030KA30 , 4K030LA24

引用特許：

出願人引用 (1件)

炭素膜コーティングプラスチック容器の製造装置および製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-189224 出願人：麒麟麦酒株式会社, 株式会社サムコインターナショナル研究所

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