遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254513
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083708
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、具体的には、基板面内の塗布均一性が優れ、更に、レジスト液の保存安定性が優れた遠紫外線用露光用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)特定構造の繰り返し単位を有する有する重合体、及び(C)炭素数6から9の直鎖ケトンを含有する溶剤、を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物が提供される。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)(i)下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種の単位、(ii)下記一般式(II-A)及び(II-B)で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種の単位を有する重合体、並びに(C)(1)炭素数6から9の直鎖ケトンを含有する溶剤、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(Ia)中:R1、R2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6、置換されていてもよい、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。ここで、R5は、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R6は、置換基を有していてもよい、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。Aは、単結合又は2価の連結基を表す。-Y基;【化2】(-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。l,mは1又は2を表す。)式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここでR3は、水素原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II-A)、(II-B)中:R13〜R16のうち一つは、下記一般式(R-1)あるいは(R-2)で示される-R基又はこの-R基を含有する基を表す。残りのR13〜R16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、-COOH、-COOR5(R5は前記のものと同義である。)、酸の作用により分解する基、-C(=O)-X-A-R17、又は置換基を有していてもよいアルキル基あるいは環状炭化水素基を表す。また、残りのRl3〜R16のうち少なくとも2つが結合して環を形成してもよい。ここで、X、Aは、各々上記式(Ia)の場合と同義である。R17は、-COOH、-COOR5、-CN、水酸基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6(R5、R6は、各々前記のものと同義である)又は前記の-Y基を表す。nは0又は1を表す。-R基【化3】(式(R-1)、(R-2)中、Raは、各々独立に、炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xaは水素原子もしくは水酸基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA00 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17

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