特許
J-GLOBAL ID：200903080137466120
シリコン自然酸化膜の選択的除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-220942
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153737
出願日： 1989年10月14日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 シリコン層表面からシリコン自然酸化膜を速やかにかつ完全に除去でき、好ましくない副反応やエッチングの逆反応が起こって汚染の原因をつくることがなく、反応の制御性、プロセスにおける再現性が極めて良好であり、シリコン層表面に形成されたシリコン自然酸化膜だけを選択的に除去することができる方法を提供する。【構成】 外気から気密に隔離された容器12内にシリコンウエハ10を収容し、その容器内へ無水フッ化水素とアルコールとを、無水フッ化水素の濃度を4%以下で供給し、それらに基板のシリコン層表面をさらす。
請求項（抜粋）：
外気から気密に隔離された容器内に基板を収容し、その容器内へ無水フッ化水素とアルコールとを、無水フッ化水素の濃度を4%以下で供給して、基板のシリコン層表面に形成されたシリコン自然酸化膜を選択的に除去するようにしたシリコン自然酸化膜の選択的除去方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
, H01L 21/308
