特許
J-GLOBAL ID:200903080139040944

光波長板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中本 宏 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-017450
公開番号(公開出願番号):特開平8-190018
出願日: 1995年01月10日
公開日(公表日): 1996年07月23日
要約:
【要約】【目的】 より簡便な方法で偏波変換度の高い高精度のポリイミド光波長板を製造する方法を提供する。【構成】 フィルム面内の屈折率に異方性を有するポリイミドフィルムの膜厚を、エッチングにより高精度で調節する光波長板の製造方法。エッチングの方法としては、酸素を用いた反応性イオンエッチングによって所定の膜厚まで切削することにより、目的のリターデーション値を持つポリイミドフィルムを得るのが好適である。その他にはUVアッシャー、酸素アッシャー、あるいはヒドラジン及び水酸化カリウム水溶液や水酸化ナトリウム水溶液等を用いた液層での切削なども有効である。【効果】 これを組込んだ導波型光デバイスの高性能化に寄与する。
請求項(抜粋):
フィルム面内の屈折率に異方性を有するポリイミドフィルムの膜厚を、エッチングにより高精度で調節することを特徴とする光波長板の製造方法。
IPC (4件):
G02B 5/30 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/122 ,  C08J 7/00 CFG
引用特許:
審査官引用 (2件)

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