特許

J-GLOBAL ID：200903080140486590

ポリシロキサンを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物

発明者： ジョージ・ジー・バークレー ,  スバラディ・カナガサバパシー ,  マシュー・エー・キング
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (3件)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-054512
公開番号（公開出願番号）：特開2004-038142
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】高解像性で耐熱性のポリシロキサン(シルセスキオキサン)の合成についての新規な方法及びそれを含むフォトレジストの開発。【解決手段】ヒドロキシ・アルコキシ又はハロで置換されたシランを多反応性窒素基を有する重合テンプレート試薬、特にジアミン試薬の存在下で重合させた,フォト酸レイビル基をもつポリシロキサンとこれにフォト活性成分を混合したフォトレジストの提供。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

a)多反応性窒素部位を有する化合物の存在下で1以上の反応性シラン化合物を重合してシロキサンポリマーを提供し;及びb)該ポリマーをフォト活性成分と混合させることを含む、フォトレジスト組成物を調製する方法。

IPC (3件)：

G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/075 511 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41