特許

J-GLOBAL ID：200903080143072826

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  土居 靖宜 ,  橋本 和彦 ,  尾崎 晴喜 ,  塙 良太郎
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-316500
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034919
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 感度、耐熱性、塗布性等の諸性能を維持したまま、γ値が高く、且つ優れたプロファイル及び焦点深度を有するポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 γ-ブチロラクトン、3-メトキシブタノール及びシクロヘキサノンの中から選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒(B) 並びに分子内にアルキルカルボニル基及びアルコキシ基を双方同時に有さず、且つ大気圧下での沸点が140 乃至180 °Cである、上記(B) 以外の有機溶媒(A) を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

γ-ブチロラクトン、3-メトキシブタノール及びシクロヘキサノンの中から選ばれる1種又は2種以上の有機溶媒(B) 並びに、分子内にアルキルカルボニル基及びアルコキシ基を双方同時に有さず、且つ大気圧下での沸点が140 乃至180°Cである、上記(B) 以外の有機溶媒(A) を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭62-251739
  
• 特開昭62-194249
  
• 特開平1-289947
  
• 特開平2-084650
  
• 特開平3-141355