特許
J-GLOBAL ID：200903080144961365
排ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-294651
公開番号（公開出願番号）：特開平8-150317
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【目的】 ランニングコストがかからず、安定した処理能力を有する排ガス処理装置を提供することを目的とする。【構成】 排ガス中に含まれているモノシラン等の有毒性ガスを加熱分解し除去する排ガス処理装置において、排ガス及び酸素(空気)が導入される加熱筒(5)と、加熱筒(5)の内部を加熱するよう加熱筒(5)の外周に配置された加熱源(6)と、加熱筒(5)の内部の出口付近の温度を検出する温度センサー(14)と、温度センサー(14)からの検出値に従って、加熱筒(5)の内部の出口付近の温度を所定の範囲内に維持するよう加熱源(6)を制御するコントローラー(16)と、加熱筒(5)の出口に接続された空冷式冷却装置(2)とを備えることを特徴としている。化学式処理装置のように金属酸化物や薬剤が不要であるので、ランニングコストが大幅に低減される。
請求項（抜粋）：
排ガス中に含まれている有毒性のガスを加熱分解し除去する排ガス処理装置において、前記排ガス及び酸素が導入される加熱筒と、前記加熱筒の内部を加熱するよう前記加熱筒の外周に配置された加熱源と、前記加熱筒の内部の出口付近の温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段からの検出値に従って、前記加熱筒の内部の出口付近の温度を所定の温度範囲内に維持するよう前記加熱源を制御する制御手段と、前記加熱筒の出口に接続された空冷式冷却装置と、を備える排ガス処理装置。
IPC (4件)：
B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/46
, B01D 53/58
, B01D 53/68
B01D 53/34 ZAB Z
, B01D 53/34 120 A
, B01D 53/34 131
, B01D 53/34 134 C
