特許

J-GLOBAL ID：200903080150690020

光学膜形成方法及び選択反射膜

発明者： 市橋 光芳
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-134058
公開番号（公開出願番号）：特開2002-328229
出願日： 2001年05月01日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 薄膜で優れた光学特性(固有複屈折Δn、選択反射ピーク)を有する光学膜を簡便かつ低コストに形成し得る光学膜形成方法を提供する。【解決手段】 重合性基を少なくとも1つ有する液晶性化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて光学膜を形成する光学膜形成方法であって、前記液晶性組成物を液晶相形成温度に保持した後、該液晶性組成物に80°C以下の温度条件下で光照射して一部を重合させ、光照射後さらに加熱し硬化する工程を有することを特徴とする光学膜形成方法である。

請求項（抜粋）：

重合性基を少なくとも1つ有する液晶性化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて光学膜を形成する光学膜形成方法であって、前記液晶性組成物を液晶相形成温度に保持した後、該液晶性組成物に80°C以下の温度条件下で光照射して一部を重合させ、光照射後さらに加熱し硬化する工程を有することを特徴とする光学膜形成方法。

IPC (7件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/26 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/13363

FI (7件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/26 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/13363

Fターム (38件)：

2H048AA06 ,  2H048AA24 ,  2H048AA25 ,  2H048BA43 ,  2H048BA47 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H048FA01 ,  2H048FA04 ,  2H048FA09 ,  2H048FA15 ,  2H048FA22 ,  2H049BA03 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BA43 ,  2H049BC01 ,  2H049BC04 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H088EA45 ,  2H088EA47 ,  2H088GA02 ,  2H088GA06 ,  2H088GA17 ,  2H088HA11 ,  2H088HA15 ,  2H088HA18 ,  2H088KA06 ,  2H088MA18 ,  2H091FA08 ,  2H091FA11 ,  2H091FA14 ,  2H091FB02 ,  2H091FD07 ,  2H091FD10 ,  2H091HA11