特許

J-GLOBAL ID：200903080154431372

有機材料薄膜の形成方法及びその装置

発明者： 熱海 陽彦 ,  山本 篤一 ,  城戸 淳二
出願人/特許権者： 株式会社昭和真空 ,  城戸 淳二
代理人 (11件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-390319
公開番号（公開出願番号）：特開2005-150061
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】 複数の異なる構造ならびに膜組成を有する薄膜機能素子(例えば有機EL素子)を効率よく形成する方法と装置を提供する。【解決手段】 真空槽内に配置された有機材料用蒸発源に対向して設置された透明導電膜がパターニング形成された基板に有機材料用蒸発源内に充填された有機蒸発材料を加熱し、その加熱によって発生した蒸気を基板表面に付着させる際、(a)基板下の近接に、少なくとも二枚以上のコンビナトリアル用マスクを配し、(b)各コンビナトリアル用マスクを異なる方向へ直線移動して任意の素子を露出する位置制御手段を搭載し、蒸気の付着する位置および付着量を制御しながら有機薄膜を形成するものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の透明導電膜をマトリクス状に形成した基板上に有機薄膜材料を蒸着し、複数種の有機薄膜機能素子を形成する装置であって、 有機薄膜材料を充填しその蒸気を所定の軸線方向に放出させる蒸発源と、 該基板と該蒸発源との間に配置され、該基板の成膜領域を制限する二枚のコンビナトリアル用マスクとを有し、 前記二枚のコンビナトリアル用マスクは、基板面に平行な平面内を互いに直交する方向に直線移動可能であり、 該基板に対する二枚のコンビナトリアル用マスク位置を変化させることにより、該基板面内の成膜領域を任意に設定可能であることを特徴とする有機薄膜形成装置。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A

Fターム (15件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029BA42 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• コンビナトリアル薄膜形成方法及びコンビナトリアルプラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-146409   出願人：科学技術振興事業団