特許

J-GLOBAL ID：200903080161782164

改良された触媒の抜き出し構造を有する反応器

発明者： 酒井 健二
出願人/特許権者： 東洋エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076200
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273203
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】【課題】 触媒の抜き出し作業を容易にし、かつ安全に抜き出すための構造を有する反応器を提供する。【解決手段】 センタ-パイプ下部に開口を設け、または開口を有する円筒を設け、該センタ-パイプまたは円筒の下端部に内筒受け座を設け、該センタ-パイプまたは円筒の内側に接して内筒を挿入して内筒受け座の上に設置し、内筒の自重によって該開口が閉じられた状態となり、内筒を上に押し上げることによって開口が開かれた状態となる開閉構造を有することからなる、中心部に原料ガスを半径方向に均一に供給するための、または反応生成ガスの集合用のセンターパイプが垂直に設けられ、その周囲に触媒を充填するための環状空間が設けられ、その環状空間中に冷却用または加熱用の伝熱媒体が流れる伝熱管が多数、垂直に設けられ、該環状空間の外側に反応生成ガスの集合用または原料ガスを半径方向に均一に供給するための手段が設けられた気相反応用反応器。

請求項（抜粋）：

中心部に原料ガスを半径方向に均一に供給するための、または反応生成ガスの集合用のセンターパイプが垂直に設けられ、その周囲に触媒を充填するための環状空間が設けられ、その環状空間中に冷却用または加熱用の伝熱媒体が流れる伝熱管が多数、垂直に設けられ、該環状空間の外側に反応生成ガスの集合用の、または原料ガスを半径方向に均一に供給するための手段が設けられ、また該センターパイプの下部には環状空間に充填された触媒の抜き出しのための開口部を設けるか、またはこのような開口部を有する円筒を設け、該センターパイプまたは円筒の内面に接して該開口部を塞ぐための内筒を設けた気相反応用反応器であって、該センターパイプまたは円筒の下端部に内筒受け座を設け、該センターパイプまたは円筒の内側に、開口のない内筒あるいは触媒の通り抜けが起こらない大きさの開口を有する内筒を挿入して該内筒を該内筒受け座上に設置し、該内筒は自重によって該円筒の開口を閉じられた状態とし、該内筒を上に押し上げることによって該円筒の開口を開かれた状態とする開閉手段を有することを特徴とする改良された触媒の抜き出し構造を有する反応器。

Fターム (9件)：

4G070AA01 ,  4G070AB02 ,  4G070BB05 ,  4G070CA10 ,  4G070CA25 ,  4G070CB02 ,  4G070CB08 ,  4G070CB17 ,  4G070DA15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第2547278号
  
• 特許第1118436号
  
• 特許第2547278号
  
• 特許第1118436号