特許

J-GLOBAL ID：200903080164702560

透磁性フィルム作成方法

発明者： ブロエメン パスカル ジェイ エイチ ,  ルイグロック ヤコブス ジェイ エム
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 津軽 進
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-539087
公開番号（公開出願番号）：特表2001-522537
出願日： 1999年01月18日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】本発明は、磁性材料の付着又は堆積により表面(3)上に磁気的に浸透性のあるフィルム(透磁性フィルム)(5)を作成する方法に関する。かかる付着又は堆積の間、磁界(H)は、前記表面近くに存在し、当該表面にほぼ平行な磁界方向を有する。付着又は体積の間、その磁性材料の透磁率を調整するため、この方法は、1)最大で概ね1/2πLexに対応する厚さ(t1+t2)まで強磁性体材料を付着又は堆積することにより形成される透磁性層(2,4)を形成することにより透磁性のフィルムを構築する(但し、Lexは、Aが強磁性材料の交換定数(exchange constant)でKuが一軸異方性定数(uniaxial anisotropy constant)であるときのである)ステップと、2)その透磁性層の形成の際に、約180°の角度だけは変化させることなく、当該磁界の磁界方向を変化させるステップとを有する。

請求項（抜粋）：

磁性材料の付着により表面上に透磁性フィルムを作成する方法であって、その付着処理において前記表面の近傍に磁界を存在させ、その磁界が当該表面に略平行な磁界方向を有するようにした透磁性フィルム作成方法において、 強磁性体材料を最大で約(1/2)πLex(Lexは、Aを前記強磁性材料の交厚さまで付着させる処理を経て透磁性層を形成することによって前記透磁性フィルムを構築するステップと、 前記透磁性層の形成において、約180°の角度についての変化を除き、磁界の磁界方向を変化させるステップと、を特徴とする透磁性フィルム作成方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-087209   出願人：日本電気株式会社