特許
J-GLOBAL ID：200903080171864347
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-000146
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195588
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 基板等の被露光材1上の位置検出マークに異常があった場合もこれを発見でき、補正でき、工程間の合わせ誤差も補正でき、信頼性の高い露光位置合わせを実現して、不良を低減でき、抜き取り検査も不要にできる露光方法を提供する。【解決手段】 被露光材1に形成された複数の位置検出マーク10,11〜14を用いて露光位置を定める露光方法において、位置検出マーク測定機構により各マークの信号波形を求め、該信号波形からマークそれぞれの中点を求め、これに基づいて露光位置を定める位置検出マーク座標位置を求めるとともに、位置検出マーク測定機構により求められた位置検出マークに関するデータに基づいて、例えば各マーク間の差の値、または信号波形の山の面積の差に許容値を設けることにより、位置検出マークの異常を検出する。
請求項（抜粋）：
被露光材に形成された複数の位置検出マークを用いて露光位置を定めて露光を行う露光方法において、位置検出マーク測定機構により各位置検出マークの信号波形を求め、該信号波形から位置検出マークそれぞれの中点を求め、これに基づいて露光位置を定める位置検出マーク座標位置を求めるとともに、上記位置検出マーク測定機構により求められた位置検出マークに関するデータに基づいて、位置検出マークの異常を検出する工程を備えることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 525 W
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 F
