特許
J-GLOBAL ID:200903080179087811

ガス浸炭窒化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 彰司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-182100
公開番号(公開出願番号):特開2001-011597
出願日: 1999年06月28日
公開日(公表日): 2001年01月16日
要約:
【要約】【課題】 短時間で大きな窒化深さを得ることができるガス浸炭窒化方法を提供する。【解決手段】 浸炭処理に適する温度の下で行われる浸炭工程と、該浸炭工程後の降温工程と、の少なくともいずれかの工程でNH3ガスを供給して被処理材に窒化処理を施す。
請求項(抜粋):
浸炭処理に適する温度の下で行われる浸炭工程と、該浸炭工程後の降温工程と、の少なくともいずれかの工程でNH3ガスを供給して被処理材に窒化処理を施すことを特徴とする、ガス浸炭窒化方法。
Fターム (2件):
4K028AA03 ,  4K028AC08
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭55-024916

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