特許
J-GLOBAL ID：200903080195504384
ウェハの洗浄装置及び洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-071564
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267277
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：
【要約】【課題】 汚染物のウェハへの再付着を防止しながら洗浄むらを防止して洗浄効率を向上させることができるウェハの洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】 洗浄液供給ノズル6と、ウェハ1と、ドレン管8との相対的な位置関係をみると、洗浄液供給ノズル6とドレン管8との間にウェハ1が位置し、また、洗浄液供給ノズル6の供給口がいずれもウェハ1の中心部を向いているので、洗浄液同士が正面から衝突することがなく、洗浄液は河川のようにほぼ一方向を向く流れでドレン管8まで達する。更に、ガス供給ノズル7からの不活性ガスの供給及び洗浄液同士の接触により洗浄液の流れが乱流状態となる。これらのことより、ウェハ1の表面において、洗浄液が滞留することがないと共に、洗浄液中の化学種の濃度がほぼ一定となる。
請求項（抜粋）：
ウェハが挿入される処理室と、この処理室内の前記ウェハに対して洗浄液を供給する複数個の洗浄液供給ノズルと、前記処理室内の気圧を昇圧する昇圧手段と、を有し、前記洗浄液供給ノズルは、その噴出口が前記ウェハの直上域をはずした位置であって前記ウェハに対して一方向に偏った位置に設けられており、前記洗浄液を前記ウェハに対して一方向に流れるように供給することを特徴とするウェハの洗浄装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304
, H01L 21/304 645
, B08B 3/08
, B08B 3/10
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 643 B
, H01L 21/304 645 A
, B08B 3/08 Z
, B08B 3/10 Z
3B201AA03
, 3B201AB23
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BB23
, 3B201BB77
, 3B201BB82
, 3B201BB87
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201BB96
, 3B201CC01
, 3B201CC12
