特許
J-GLOBAL ID：200903080198730067
ダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-027544
公開番号（公開出願番号）：特開2004-237177
出願日： 2003年02月04日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】種々の態様のダブルエマルション・マイクロカプセルを簡便にしかも容易に作製することができるダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置を提供する。【解決手段】第1連続相101と第1分散相104とが交差する第1の交差部107と、この第1の交差部107の下流である第2分散相108と第2連続相110とが交差する第2の交差部113とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップ100を具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1連続相と第1分散相とが交差する第1の交差部と、該第1の交差部の下流である第2分散相と第2連続相とが交差する第2の交差部とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップを具備することを特徴とするダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置。
IPC (4件)：
B01F3/08
, B01F5/04
, B81B1/00
, B81B7/02
B01F3/08 A
, B01F5/04
, B81B1/00
, B81B7/02
4G035AB40
, 4G035AC50
, 4G035AE17
