特許

J-GLOBAL ID：200903080200706322

レーザー走査光学装置

発明者： 中井 武彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-092503
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271655
出願日： 1998年03月20日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 回折光学素子を一種類の形状で形成すると共に、光量ロスすることなく、スポット径を小さくし、かつ焦点深度を増大させて高画質な画像を得ることができるレーザー走査光学装置を得ること。【解決手段】 画像信号に応じて光源手段から光変調され出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光束として偏向手段に導光し、偏向手段により偏向された光束を結像手段を介して被走査面上に導光し、被走査面上を走査する際、光源手段と該偏向手段との間の光路中にビーム整形手段を設け、ビーム整形手段はそこから射出する光束の光強度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状の光束に整形する第1、第2の回折光学素子を有し、第1、第2の回折光学素子間で偏向される光束を一度光軸と交わるように構成することによって、第1、第2の回折光学素子を同一形状より形成したこと。

請求項（抜粋）：

画像信号に応じて光源手段から光変調され出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光束として偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された光束を結像手段を介して被走査面上に導光し、該被走査面上を走査するレーザー走査光学装置において、該光源手段と該偏向手段との間の光路中にビーム整形手段を設け、該ビーム整形手段はそこから射出する光束の光強度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状の光束に整形する第1、第2の回折光学素子を有し、該第1、第2の回折光学素子間で偏向される光束を一度光軸と交わるように構成することによって、該第1、第2の回折光学素子を同一形状より形成したことを特徴とするレーザー走査光学装置。